化合物半導体製造装置メーカー。簿膜技術を基盤に化学反応による薄膜形成（CVD装置）、微細加工（ドライエッチング装置）、洗浄・表面処理（基板のドライ洗浄装置）の3分野装置の開発・製造・販売。窒化ガリウム、ガリウムヒ素や炭化シリコンなどの化合物を主体材料とした化合物半導体製造装置に特化。オプトエレクトロニクス（LEDや半導体レーザ）、電子部品（MEMS、高周波デバイス）、半導体デバイス（3次元パッケージや欠陥解析）に製品を供給。主力製品はCVD装置（3次元LSI用高速シリコン酸化膜形成）、ドライエッチング装置（LED用高密度プラズマエッジング）、ドライ洗浄装置。ライフサイエンス分野（医療、バイオ）、クリーンエネルギー、リチウムイオン電池、パワー半導体など新規分野に注力。半導体材料・酸化物半導体の基礎研究を米国・英国で実施。2015年MOCVD（有機金属気相成長法）で米VPE 社と技術提携、電子デバイス向け原子層堆積装置/ALD装置発売。2022年ナノ薄膜開発センターを立ち上げ。