半導体検査装置メーカー。半導体検査装置（マスクブランクス製造・ウェハ製造・マスク作成・デバイス製造工程におけるフォトマスクやウェハの欠陥検査装置）、FPDフォトマスク欠陥検査装置の製造・販売。半導体用マスク検査装置の世界トップメーカー（ファブライト企業）。レーザー顕微鏡を出発点に、光応用技術（共焦点光学系技術、EUV/DUV光学系技術、光干渉計技術）を核に検査・計測装置を開発。主要製品は半導体製造プロセス前工程のアクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置「ACTIS」、EUVマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置、マスク検査装置「MATRICS」、ウェハ欠陥検査/レビュー装置。リソグラフィプロセス検査装置・ウェハ関連欠陥検査に注力。2019年世界で初めてEUV光を採用した「EUVマスクブランクス欠陥検査」を開発。2020年グローバルニッチトップ企業100選に選定（マスク欠陥検査装置）。2023年LPP方式の高輝度EUVプラズマ光源を開発。主要取引先はTSMC、Intel Corporation、Samsung Electronics。